| 真空井式坩埚炉，集控制系统与炉膛一体，其中炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控硅碳棒加热。超大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统，可在流动气氛和真空状态下快速加热样品。主要用于金属、非金属及化合物材料进行烧结、融化、分析。控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，以便随时观察。 坩埚炉的技术参数 工作温度：≤1100℃ 温度：1200℃ 控温方式：智能化可编程控制 升温最快速率：40℃/min 恒温精度：±1℃ 炉门结构：上开式 工作电源：AC220V 额定功率：3KW 主要特点： 硅碳棒作为发热元件，可加热到1200℃ 高纯石英杯（2520不锈钢）：250外径x 230内径x 300高mm 。高精度不锈钢针阀和真空表及真空法兰可直接使用。内置30段可编程精密数字温度控制器可控制升降温速率。 坩锅炉主要应用： 煅烧真空或惰性气体的高纯度化合物 退火或扩散半导体晶片多达6“直径 坩埚高温提取出效果图
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真空气氛坩埚炉 井式坩埚炉
